- 2024年2月24日
ウェットエッチングとドライエッチングの半導体プロセスの違い?
エッチング(Etching)は、半導体プロセス全体の中で重要なステップです! エッチングは、フォトリソグラフィプロセスの後、集積回路のパターンをウエハ上に作り出す役割を担っています。 エッチングとフォトリソグラフィーは密接に関連していますので、露光や […]
エッチング(Etching)は、半導体プロセス全体の中で重要なステップです! エッチングは、フォトリソグラフィプロセスの後、集積回路のパターンをウエハ上に作り出す役割を担っています。 エッチングとフォトリソグラフィーは密接に関連していますので、露光や […]
ウエハ表面はプロセス処理を行う面ですが、プロセスの良し悪しはウエハの状態も1つの重要なパラメータです。 例えば、薄膜の均一性や膜の材料、ウエハの温度・材質によって単純なプロセスでは対応できないことがよくあります。 今回ご紹介していく『親水性』と『疎水 […]
半導体チップを製造するプロセスの中で、一番重要と言っても過言ではないプロセスが『レジスト膜の形成』です。 レジスト膜をウエハ上に形成することによって、露光機のパターンを転写し、エッチングの被膜になるなど重要な役割を持っています。 そんなレジストは『ス […]
フォトリソグラフィ工程において塗布は重要な工程であり、レジストの膜厚の均一性は半導体チップの性能に大きな影響を与えるプロセスです。 半導体チップが薄く進化していくに連れて、各プロセスの微細化と安定性(再現性)は、プロセスエンジニアにとって永遠の課題と […]
露光装置(リソグラフィ)は一般に、5種類に分類する事ができます。 現在量産として使われている露光機はレンズ光学系やミラー光学系が一般的ですが、小さな規模である大学の研究用などでは古いタイプの露光機が多く使われています。 皆さんがよく聞くであろう、ステ […]
リソグラフィプロセスがナノサイズにまで進んで来ると、リソグラフィ工程でのレジストのエッジ粗さ(LER)が大きな問題になることがあります。 レジスト膜は被膜の役割を果たしており、露光機のパターン転写やエッチングに対しても影響を与えています。 厄介な現像 […]
これまで『Dry』リソグラフィーのレンズは、光が曲がる角度範囲を90度に近づけることしかできませんでした(この角度範囲は開口数 : NAと呼ばれる)。 さらに曲げて解像度を高めることは不可能であるため、レンズとウエハの間に液浸媒体を挿入することで波長 […]
半導体チップ製造のコアなプロセスの1つはリソグラフィであり、リソグラフィのコアの1つは露光機の光源にあります。 露光機によって発せられる光の特性は大きく異なり、特にその波長、照度、均一性など重要となるパラメータは多くあります。 そのため、光源がリソグ […]
ウエハ現像プロセスはフォトリソグラフィプロセスに不可欠なステップであり、現像プロセスはすでに数十年の革新と進歩によって様々な方法があります。 では一般的な現像方法にはどのような方法があり、どのような優位性があって進歩してきたのでしょうか? また現像プ […]
定在波効果(standing wave)は、高度なフォトリソグラフィープロセスでは無視できない現象です。 定在波効果によってフォトリソ工程以降にも一連の品質問題を引き起こし、パターンの精度に重大な影響を与える可能性があります。 では、定在波効果とは一 […]